余承东说得没错，国产EUV光源样机首次亮相，现场工作人员：距离量产需3至5年

本文看点 根据《解放日报》10月14日报道，2026第二十六届中国国际工业博览会上，朗道燧岩首次公开展出的EUV光源系统样机。据现场披露，这台EUV光源样机国产化率达到90%，绝大多数核心零部件实现自主研发，技术路线与全球主流方案保持一致，距离正式量产还有3到5年时间。 荷兰ASML担忧的事发生了 余承东说得没错，EUV光刻机正在研发中。这个时间表算不上快，却足够踏实。背后的研发团队出自清华大学气体放电等离子体实验室，在EUV光源这条赛道上深耕多年，这是厚积薄发的技术落地。 EUV光源是先进制程芯片的入场券，更是西方半导体管制的核心筹码。没有成熟可用的EUV光源，7纳米以下的芯片制造就无从谈起。过去这些年，从EUV整机全面禁运，到如今美国仍在推动将浸没式DUV也纳入限制清单，层层加码的管制。不过，戏剧性的是，荷兰阿斯麦CEO富凯自己都曾公开坦言，收紧对华出口管制，只会加速中国自主研发替代技术的步伐。 这一幕在中国科技发展史上早已反复上演。当年北斗被排除在伽利略合作之外，最后我们建成了全球领先的卫星导航系统；中国参与国际空间站的路被堵死，如今我们有了自己的太空家园。每一次“不带你玩”的技术封锁，最后都变成了倒逼我们自主创新的动力。放到半导体领域同样如此，这几年国内装备厂商接连突破，中微公司已经拿出54种高端半导体设备，刻蚀、薄膜等核心装备打入全球先进产线；现在EUV光源又迈出关键一步，正是整条产业链从单点突破向体系化推进的鲜明信号。朗道燧岩这一步的真正意义，不是“马上取代阿斯麦”，而是把EUV光源从“中国人做不了”变成“中国人做出来了、接下来是工程化”。从0到1最贵，从1到100是钱和时间能堆的事。 即便从实验室样机到稳定量产，再到性能、良率追上国际顶尖水平，中间还有不少关卡要闯，3到5年只是产业化的第一步，远没到可以松口气的时候。但这一步的象征意义怎么高估都不为过，它打碎了“EUV光源中国人做不出来”的刻板断言，给整个产业链注入了实打实的信心。一个个核心环节陆续突破，一张张技术封锁的牌被慢慢消解，中国半导体产业的突围之路，走得慢，但走得稳，更走得无比坚定。 特别